而且光刻机只是光刻生产其中一个环节，调整难度大。”

唐普赞同道：“这倒是。”

“按照常理，西方欧美地区习惯对国内在高精尖科技领域形成领先两三代的优势，一旦国内突破一代，立马会开放更先进一代甚至两代的产品销售；

按照行业标准，45~40nm下一代是32~28nm，32~28nm下一代是22~20nm，如果西方保持这种常理，我们把场面弄好，他们可能直接开放支持20nm工艺制程的光刻机，这样从各方面都会削弱国产发展。”

然后陈嘉欣提出看法：“我觉得可以安排即将在京成立的通讯业务子公司参与配合造势。”

几人一商量，大方向就定了下来。

大家说得都有道理。

所谓瓦森纳之类的管束协定，它要生效的前提是产品有代差，为了保证这一点，西方是步步扩大优势。

抛开那些过去了的造不如买操作不谈，目前在各行业尤其是半导体领域领先程度是很吓人的。

实际上国产可商用的光刻机连90nm都没有，甚至更夸张一点说，130nm包括180nm都是半空白状态。

不过现在星空半导体是直接要把实验室级的45nm产品用到生产线上，从实际角度上，这就算是商用了。

所以，常理上，西方的确会至少放开32~28nm的产品。

这里面涉及到两个大方面的事情，一是放开后会打击国产厂商的研发积极度，因为产品会滞销，没人乐意使用落后产品。

二是一条晶圆生产线的建设或者产线升级，涉及到的类目众多，时间周期不短，不考虑将来euv那个吓人的1年起步周期，duv也是需要好几个月上年的时间，一旦选定产品，至少未来三年内同级别产品销路会锐减。

两方面的因素影响下，都不谈什么经验影响下的产品使用体验差距等等，正常商业公司无论国营民营都会直