，由于水的折射率大约为1.4，那么波长可缩短为193/1.4=132nm，大大超过攻而不克的157nm。

而且这个被称做“浸入式光刻技术”的方案还有其他明显优势，第一，由于是利用现有成熟技术改造，资金投入小，可以给半导体设备制造商节省研发投入，并减小芯片制造商的导入成本；第二，如果把介质从水换成其它高折射率液体，波长还可以进一步缩小到132nm以下，也就是说提高光刻机的分辨率非常方便。

他开始游说米国、汉斯、倭国的光刻机制造厂们，企图说服大厂们采用“浸入式光刻”方案，但，依然都被拒绝。

因为这些大厂都为了157nm光源投入了巨量的资金，如果现在放弃，从头研发“浸润式方案”，就意味着前期的巨量投入都打了水漂，是个人想想都会心疼，而且没法向董事会交代——好吧这些企业后来都悔青了肠子。

最后，林本兼找到了彼得﹒韦尼克，这个在当时最不起眼的在众多大厂的夹缝中勉强生存的光刻机生产厂asml的ceo，两个落魄的天才终于擦出了火花。

彼得.韦尼克在拿到了这个方案的时候，立刻就下定了破罐子破摔……搏一把的决心，押上全部身家，与台积电联合研制这台光刻机。

三年之后的2004年，全球第一台浸润式微影机研发成功。

“浸入式光刻机”一出，基本上宣判了半导体界正在开发的各种“干式”微影技术方案的死刑，因为循着这条技术路径，半导体芯片生产商可以以一个不算高昂的成本将芯片制程从65纳米逐步提升至10纳米以内！

而对于任何一家半导体芯片制造企业来说，制程，都是第一重要的关键因素，是企业的生命线！

制程为什么重要？

答案很简单——因为钱！

在解释清楚这个问题之前，我们首先需要树