生产出自己需要的芯片。包括手机芯片和电脑芯片。

光刻机的产量，也是每周一台。

原始精度是10纳米。升级以后，精度提升到5纳米。

继续升级，精度提升到1纳米、0.5纳米、0.1纳米等等。一直到0.001纳米以上。那是皮米级别了。

对光刻机的需求，简直就是大沙漠对水分的渴求。

我们太需要一台先进的光刻机了。

哦，说错了。不是一台。

是十台、百台、千台、万台……

多少都不够。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有售价7000万美金的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。

国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），RBNikon（intel曾经购买过Nikon的高端光刻机）和RBCanon三大品牌为主。生产线和研发用的低端光刻机为接近、接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上。主要有德国SUSS、美国MYCRO NXQ4006、以及中国品牌。

设计手机芯片或者电脑芯片，需要使用的光刻机，精度必须是在10纳米左右。

然而，我国目前能够利用的（不是拥有），最高精度只有28纳米。

AMD的CPU曾经被intel压制多年，就是因为AMD的女朋友（GF工厂）不给力啊！万年不变的都是28纳米制造工艺。

结果去年，AMD成功的将精度提高到了14纳米，一下子就打了一个翻身仗。

华为想要设计自己的手机芯片。但是没有先进的光刻机。

小米也想拥有自己的手机芯片。但