80di这种落后的光刻机，实现了14nm、10nm，甚至7nm。

梁老的两重曝光技术，不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上，成本也不会增加太多。

使得中芯国际的28nm工艺大规模量产，能满足大多数芯片需求。

14nm需要三重曝光，凭借梁老的技术，良品率和成本也能保证。

可7nm制程，就要用nxt 1980di四重曝光，技术方面梁老都能解决，但良品率和成本就不好说了。

巧妇难为无米之炊。

拿着nxt 1980di当euv3300用，真是太强人所难。

不过，在国产光刻机突破之前，这也是迫不得已的办法。

当然，2011年nxt 1980di还没有发布。

王逸当下能买到的光刻机型号，是2009年推出的nxt：1950i，和今年刚推出的nxt：1960bi。

其实1950i/1960bi/1970ci/1980di，这四款光刻机都是同样的光源系统，单次曝光都在38nm以上，多重曝光都能生产28nm、16nm、14nm、12nm，甚至7nm。

后续的nxt：1960bi、1970ci、1980di，不过是在nxt：1950i进行了部分升级，提高了良品率和精度，本质上相差不大。

像是三星台积电的未来几年的28nm、22nm、20nm、16nm、14nm、10nm，很多都是用的nxt：1950i！

毕竟三星、台积电2016年量产10nm芯片的时候，nxt：1980di光刻机才开始量产！

7nm之前的制程，三星台积电用的都是1950i、1960bi、1970ci等老型号。

只要不量产7nm，都没压力。

同样，王逸的12英寸晶圆厂，若是买到