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第五十三章 追光行动(3)(4 / 6)

次的曝光,由于每次曝光的间隔都需要对晶圆进行移动调整,为了保证移动的稳定和精准,避免出现小至几纳米的误差导致芯片报废,就需要不断的对晶圆在纳米尺度做量测,并且实现校正和结果的反馈,从而不断的提升良率……”

徐端颐的话还没说完,就被卿云展示出来的ppt给打断了,而后一脸便秘的望着台前正无良笑着的少年。

狗日的!

你便宜老师科普的时候你不打断,我特么说话的时候你就来打脸是吧!

手里的茶杯盖子都想呼在那臭屁小子的脸上了。

太不尊老了!

台上的卿云嘿嘿的笑着,“集成电路制造的主要流程大概是,opc、smo计算光刻-涂胶-曝光-显影-刻蚀-离子注入-光刻胶移除-沉积-下一层制程-量测检验。

这十大工序,如同上面光刻机器的七大系统,我都进行了考虑和安排……”

徐端颐的内心虽然被卿云突如其来的ppt展示打断而感到有些尴尬,但随即他的心中却涌起了一股莫名的欣喜。

他心中暗自思忖:“这小子,确实有两把刷子。这种打脸,打得我舒坦。这说明了,他确实对各个环节都了如指掌,并且一一做了预案。”

徐端颐望着卿云的眼神中,不禁流露出了赞许的神色。

他知道,卿云的准备充分,意味着整个项目的成功概率将会大大提高。

在科研领域,一个详尽的预案往往能够决定一个项目能否顺利进行。

这种被后辈以实力打脸的感觉,让他既感到有些没面子,但同时也感到欣慰。

他明白,他们已经老了,甚至这里坐着的不少人,其实已经到了油尽灯枯的年纪。

科研的未来需要依靠这些有准备、有远见的年轻人,而卿云,无疑是其中的佼佼者。

“小卿,你这准备…

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