，中国市场庞大，未来也足以养活整个半导体产业链上面的公司。

荷兰阿斯麦evu虽说有10万多个零件，五千个零件供应商，但其实大部分零件，中国也可以开发出来。少部分技术比较难的零件，难道中国多花点时间依旧攻克不了？

事在人为！

而且，现在是80年代，光刻机的发展才起步。中国光刻机发展起来，反而会压制其他半导体公司的发展。

就赵烨所知，光刻机到了90年代之后，几乎一二十年内都没有多少进步，业界普遍认为193nm光刻无法延伸到65nm技术节点，而157nm将成为主流技术。

直到2002，台积电的林本坚提出了193nm浸没式光刻的概念，此前，光刻机都是干式光刻机。

到了2007年，asml阿斯麦与台积电合作开发，成功推出第一台浸没式光刻机，使得193nm光波在水中的等效波长缩短为134nm，足可超越 157nm的极限。

阿斯麦也就在这个时候，凭借浸没式光刻机的技术优势彻底击败佳能、尼康，成为光刻机霸主。

倘若无疆微电子公司率先把林本坚收入麾下，提前开发浸没式光刻机，那么，中国光刻机实现弯道超车，指日可待！

赵烨此时面对rb，乃至全球的光刻胶厂商的封锁，心中的斗志越发昂扬。

而在场所有人心中都憋着一股气，这股气将会转化为动力，不把光刻胶开发出来誓不罢休！

赵烨环视一圈，缓缓开口道：“rb人害怕我们超越他们，所以才会对我们断供光刻胶！我很早之前就说过，不要把希望寄托于别人，必须坚持走自主研发路线。今天，他们断供光刻胶，明天就有可能断供单晶硅、芯片、内存、操作系统等等。难道我们要一直让别人卡脖子吗？渴望别人的怜悯和施舍吗？”

“自力更生，丰衣足食！国外有的，我们也要有，而且还要努力超越他们！”