%，这也是为什么对euv光源的要求就是功率足够强，不然的话，华国也不可能在光源上实现不了突破，毕竟方法都知道，不可能造都造不出来。

而x光刻机就不同了，因为是直写式，不需要经过镜片折射，所以根本不用担心光源功率不足的问题，反倒要担心的是曝光时间稍微长了一点，反倒会影响到最终的效果。

当然，x光优点很多，但同样也有缺点。

那就是相比较euv光刻机来说，光刻效率比较低，在实现大规模生产上比较困难，这也是为什么x光刻机没有占据主流的原因，虽然到现在也仍然再用，不过并不是那么引起人们的关心。

不过，这个问题林晓自然是考虑到了，而他觉得x光刻机能搞，便是因为他刚才闪过的灵感，让他有了一个实现x光刻机大规模生产的方法。

那就是利用衍射效应。

x光是能通过晶体进行衍射的，并且一般来说，晶体结构基本上是利用x光衍射来测定的。

但是反过来说，如果选取合适的晶体材料作为透镜，然后利用衍射效应实现对x光的缩放，进而就能实现像euv光刻机那样的生产效率，在加上x光那强大的能量，实现更加快速的生产效率，十分的轻松。

当然，其中就有一个困难的问题了，那就是这个合适的晶体是什么，此外，利用衍射效应实现对x光的控制，其中需要处理的数据十分庞大。

所以到现在虽然也有利用这种衍射效应去实现芯片制造的，但是基本上都仅限于一些特殊的图形，应用案例十分之少。

对于林晓来说，他也仅仅只是这么想一想。

虽然现在的他还有一点把握，但是要是他给外界的人说自己要搞x光刻机的话，恐怕他们华芯盟第二天就得退出个一大半。

不再多想，他重新将目光投入到眼前的数学模型中。

如今升级了的他，再次回顾起这个模型，心中忽然觉得，这个模