高凡这话,要是让毕主任听见,只怕要指着他的鼻子大骂他信口开河了。
什么,光刻胶没有技术门槛,你说的是贴春联的浆糊吧?
光刻技术,被称为人类工业成果的集大成者。光刻机的制造固然要涉及到无数尖端制造工艺,光刻胶的研制与合成,同样需要化学与物理学的完美集成。
一种优秀的光刻胶,需要考虑到灵敏度、对比度、抗刻蚀性、分辨能力、曝光宽容度、工艺宽容度、热流动性、膨胀效应、黏度、保证期限等等,研究人员需要从理论上设计出符合条件的化合物,想办法进行合成,并在实践中不断优化配方,最后才有一个很小的概率能够开发出一种有效的光刻胶。
有时候,开发出来的光刻胶在某些方面表现出色,而另外一些方面仍存在问题,这时候还需要与集成电路制造商协调,调整光刻工艺以规避光刻胶中存在的缺陷。
总之,就是一句话,认为光刻胶没有技术门槛,是彻头彻尾的外行言论。
那么,高凡是外行吗?
显然不是。
他之所以敢说光刻胶没有太高的门槛,是因为他通晓20世纪80年代至21世纪前20年全球光刻胶技术的发展脉络,目前美国、日本、德国、英国的光刻胶厂商正在苦苦探索的技术诀窍,在他脑子里已经有了清晰的答案。
给高凡一张euv光刻机的制造图纸,他没办法把设备造出来。因为制造这台设备,需要使用许多种精密机床,而这些机床甚至连西方国家也还没研制出来。
但光刻胶的合成并不需要复杂的设备,有了配方和工艺,他是完全能够把光刻胶制造出来的。
高凡穿越前的年代,正值西方国家对中国进行半导体技术的封锁。虽然中国人最终突破封锁,造出了“遥遥领先”,但那种被人讹诈而无法还手的憋屈,高凡是深深体会过的,而且即便是穿越到今