性能上更加优异，制备出来的光刻胶在精度上更高，可以用来蚀刻低纳米级的芯片。

当初韩元想着的是调配精度高一点的光刻胶让华国也能自己生产，现在倒好，方便了他自己。

这三种感光树脂重新按照不同的比例调配一下，制备出来复形感光树脂就可以适用于碳基芯片了。

他现在要制备负性光刻胶，实际上只有增感剂和溶剂组这两种材料。

不过说是两种，其实却都是复合材料。

其中增感剂是有两种不同的光敏引发剂混合构成的，而溶剂组就更不用说了，从名字就知道，它的组成材料是多种。

比如其中一部分是适用于除胶的除胶水，它的组成原料就是丙酮，醋酸甲酯, 醋酸乙酯这三种的混合物。

......

制备增感剂和溶剂组的原料韩元手中有一部分。

这些是之前处理硅基芯片时遗留下来的，纯度也够，可以直接使用，这节省了不少的精力。

至于剩下的大部分材料和溶剂，都需要重新进行调配。

石墨烯单晶的性质比单晶硅的性质要更加稳定，所以需要腐蚀性、塑固性更强的溶液来进行处理。

化学配置各种溶剂，在所需要的基础材料手中都有的情况下对韩元这个老化工人来说并不难，各种化学反应他早已经牢记于心，甚至可以说是刻在基因中。

从易到难，一份份的化学溶剂在他手中出现，这些装在或装在玻璃容器或装在聚酯容器中的溶液，是最终组成溶剂组的原料。

相对适用于碳基芯片的增感剂来说，溶剂组中的各种混合型溶剂更加容易制备。

这些溶剂在光刻胶的制造材料中属于最简单的。

它们作为聚合反应的介质，可以让光刻胶与对应涂层的反应缓和，易于控制温度，防止凝胶增加贮存稳定性等。