常佩服的说道。

“目前，我们的65制程技术的光刻机，已经是实现了量产了，明年突破45纳来技术的光刻机，应该是没有问题的，最多后年便可以实现量产化了。”林志华很自豪的说道。

“下一步，我们将研发28纳米技术的光刻机，之后才会集中力量，研发最高端的euv光刻机。”

“这也未免有点太快了吧！阿斯慢公司生产的光刻机，现在也还停留在22纳米的技术上，而且人家采用的可是极紫色光源的euv光刻机啊！那可是花费了多少时间，多大代价，才完成的科研突破啊！”另一名沪微电子集团的科研专家说道。

“的确是花费了很长的时间，很大的代价才完成了技术突破的，但其实我们只要解决了几个关键的技术，造出一台euv光刻机，也不是什么不可能完成的事情。”林志华说道。

“众所周知，如果了解光刻技术的发展史，大家就会知道光刻技术的原理并不复杂，还在微米制程时代的芯片产业，对于光刻机的要求并不高。”

“上世纪七十年代那个时候，发达国家有点实力的大公司，自己也能买来各种零件，自己组装光刻机。”

“不过随着技术的要求不断提升，光刻机的生产也就越来越专业化了。”

“尽管如此，光刻机的原理是不会变的，普的只是对技术要求的不断提高。”

“阿斯慢发展了这么多年，也投入了很大的代价，研究了很多年的时间，至今最高端的euv光刻机，都还没有实现量产。”

“我们虽然开始的晚些，比那些生产光刻机的知名企业，在技术上也落后了许多，但是我们也有我们的优势，我们已经知道了光刻机的很多的原理，甚至是掌握了很多的技木，也知道他们研发过程中出现的一些问题。”

“所以我们发展的时间，肯定是要大大的缩短啊，最终追赶上他们，甚至