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第100、101章 极紫外光刻技术(为饢龘及订阅加更)(2 / 7)

待之后再解锁,因为现在全国都等着用高端硅基芯片,量子芯片还不急。

除此之外,便是光刻机的相关知识。

光刻机也在超精密加工技术里,何星舟去年解锁了超精密加工的切削技术,研发出了龙腾系列机床。

这次得解锁“超精密特种加工技术”,需要能量点十万点。

“制造光刻机,还需要光刻胶。”光刻胶又叫光致抗蚀剂,是一种耐蚀剂刻薄膜材料,半导体加工时需要这种材料。

光刻胶这东西,也在白鹰等的列表中。

“紫外光刻胶,适用于436纳米-365纳米光刻技术,解锁需要一万单位能源。”

“深紫外光刻胶,适用于248纳米-193纳米光刻,解锁需要三万单位能源。”

“极紫外光刻胶,常用于11纳米-14纳米光刻,解锁需要五万单位能源。”

“辐射线光刻胶,用于更高分辨率光刻,需解锁上述所有光刻胶后方能解锁。”

何星舟要用到的,便是极紫外光刻胶,目前世界上最先进的光刻机,也就是极紫外光刻机,它可以制造出3纳米制程的硅基芯片。

又是八万单位能源,何星舟将光刻胶材料技术也解锁掉。

最后,便是最重要的光刻机制造技术了。

光刻机,号称是目前人类工业技术的巅峰作品!以光为刀,在纳米级的尺度上进行雕刻!

世界上最先进的euv(极紫外)光刻机,拥有超过十万个零件,如果要运输一辆光刻机,需要准备20辆卡车,三架货机,40个集装箱,才能完成运输!

它涉及的种种技术,几乎涵盖所有的工业领域,曾有专家断言,没有一个国家能够独立制造出光刻机!

而在白鹰七方的列表中,对光刻机所有关键的材料、零部件,全部给打了x!就是要全方位压制神州的光刻机

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