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第157章 挖ASML的根(4 / 5)

开始活化,有一些性子急的小草早早就破土而出。两颗太阳光照大地,让温度回升到5c了。

他去过一趟南湖花海,水还没退下去,所以花仙们应该还要等几天才能苏醒。

实验室的设备,早在研究貘兽与激光飞蛾时,就已经有了充分而又复杂的光学实验装置,因此稍作改动就能用在四腿蜘蛛身上。

但数据的分析研究,不是一天两天就能完成,有时候为了分析出一个数据,要等候几天的处理。

而这实验间隙里,杜恪就在电脑上啪嗒啪嗒的整理ppt文档。

“杜恪波与duv方程,让uv光源可以进行渐变切换,理论上,通过这种技术手段,我们可以实现对euv(极紫外光)的干涉,从而获得波长更短的光源,提升芯片的纳米制程。”

选了一副euv光刻机作为配图,杜恪继续整理文档:“10年代我们推测,euv技术成熟后,3nm制程将成为主流光刻工艺,2nm制程也将随之铺展而来。但是结果并非尽如人意,3nm制程不够稳定,2nm制程尚未成效,究其原因是euv收集难度巨大,转化效率很低,需要的光学镜片精度也难以跟上……”

“所以。”

“我认为杜恪波将会在这方面提供帮助,通过波的干涉效果,约束材料本身对euv的吸收,从而让光刻机获得更稳定的euv光源,减少对光学镜片的精度依赖,并且不必借助lpp即可生产光源,有效降低光刻机的散热需求。”

这套改进方案说下去,杜恪忽然发现。

自己这不就是在挖asml的根吗,风车国的asml是光刻机领域巨头,靠的就是euv光源稳定生产3nm制程的光刻机。同时搭载了米利坚的光源技术,也就是lpp(激光等离子体光源)。一旦杜恪预言的杜恪波与euv光源实现,那么就能完美避开asml和米利坚的技术。

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